問題詳情

14 電路板製作線路過程採用影像轉移(Image Transfer)技術,其製程需使用到光阻劑(Photo-resist),請問以下敘述何者正確?
(A)此光阻是曝光後經會被顯像液分解;
(B)此光阻使用越厚越好;
(C)此光阻在保護膜的貼覆下可以曝曬陽光;
(D)此光阻採用的是負型光阻

參考答案

答案:D
難度:非常簡單0.9
書單:沒有書單,新增

內容推薦

內容推薦