問題詳情

5.有關半導體光顯微影製成步驟: A 光阻曝光、 B 光阻塗佈、C 光阻顯影,下列製成順序何者為正確?
(A)BCA
(B)ABC
(C)CAB
(D)BAC。

參考答案

無參考答案

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