問題詳情
21. 上光阻、曝光、顯影是電路板廠最常用之圖案轉移製程，底片是其中曝光製程會使用到的重要工具。電路板製程中所使用到的底片在品保上最重要的要求為何？
(A)與曝光設備之搭配
(B)耐酸鹼性
(C)尺寸安定性
(D)耐用性
(A)與曝光設備之搭配
(B)耐酸鹼性
(C)尺寸安定性
(D)耐用性
參考答案
答案：C
難度：適中0.643
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