問題詳情
40 對於可撤式局部義齒金屬支架（framework）製作之敘述，下列何者正確？
(A)為防止在封凹處理（blockout）時造成工作模型的損傷，可塗布一層表面封填劑薄膜於模型表面
(B)在上顎製作過程中，須先完成封凹處理後，再進行珠狀緣飾（beading）處理
(C)封凹蠟應放置於高隆線近咬合面或切緣區域，才能製作出貼合度佳的支架
(D)干擾金屬支架置入模型定位的區域，須以任意式封凹處理（arbitrary blockout）予以消除
(A)為防止在封凹處理（blockout）時造成工作模型的損傷，可塗布一層表面封填劑薄膜於模型表面
(B)在上顎製作過程中，須先完成封凹處理後，再進行珠狀緣飾（beading）處理
(C)封凹蠟應放置於高隆線近咬合面或切緣區域，才能製作出貼合度佳的支架
(D)干擾金屬支架置入模型定位的區域，須以任意式封凹處理（arbitrary blockout）予以消除
參考答案
答案：A
難度：適中0.666667
統計：A(2),B(0),C(1),D(0),E(0)
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