問題詳情

八、假設以氟原子(F)進行矽(Si)或二氧化矽(SiO2)的蝕刻時,其蝕刻率可表示為:1 − Ea蝕刻率(nm/min)=phpBhx5xN其中,氣體常數 R = 1.987 cal-K,該常數
(A)及活化能(Ea)參數值表列如下:phpiCFDYn假設氟原子濃度 nF = 3 × 1015 cm − 3 ,試求在溫度 T = 300 K 時,其對 SiO2 與 Si 的蝕刻選擇比為何?(20 分)

參考答案

答案:C
難度:適中0.442857
統計:A(8),B(6),C(31),D(18),E(0) #
個人:尚未作答書單:遺產及贈與稅法-獎懲-免罰規定、遺產及贈與稅繳納期限規定、需記入遺產總額

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