問題詳情
⑵在製作矽元件或矽積體電路時，我們常用氮化矽（Silicon Nitride，Si3N4）作為絕緣層或披覆層（Passivation Layer），如果要以氮化矽作為絕緣層與披覆層，應該分別使用何種技術成長？請說明原因。（每小題 10 分，共 20 分）
參考答案
答案：D
難度：簡單0.783981
統計：A(152),B(99),C(161),D(3230),E(0) #
個人：尚未作答書單：資訊管理
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