問題詳情
30 在製作全口義齒咬合蠟堤進行咬合取得時，下列敘述何者不是製作蠟堤的原則？
(A)蠟堤的形狀與位置應儘量模擬未來義齒排列的狀態
(B)下顎蠟堤的高度一般與臼齒後墊（retromolar pad）的頂點等高
(C)上顎蠟堤不宜太長，一般設定停在上顎第一大臼齒部為止
(D)蠟堤的高度可能會依殘嵴的吸收程度而改變
(A)蠟堤的形狀與位置應儘量模擬未來義齒排列的狀態
(B)下顎蠟堤的高度一般與臼齒後墊（retromolar pad）的頂點等高
(C)上顎蠟堤不宜太長，一般設定停在上顎第一大臼齒部為止
(D)蠟堤的高度可能會依殘嵴的吸收程度而改變
參考答案
答案：B
難度：簡單0.722222
統計：A(0),B(26),C(10),D(0),E(0)
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