問題詳情
四、在 IC 奈米化過程中，有許多新的製程技術被引用，其中高介電係數（High K）材料製程也是被引用技術之一，請詳細說明 High K 材料技術在 IC 奈米化過程可協助解決甚麼困難？（20 分）
參考答案
答案：C
難度：簡單0.806922
統計：A(118),B(87),C(1329),D(30),E(0) #
個人：尚未作答書單：卡芬頓－自我價值論、習得無助感、心理性動機
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