問題詳情
二、一般以雙極性接面電晶體（Bipolar junction transistor）技術製作之 IC，常包含一矽磊晶製程以形成埋藏層（Buried layer），此製程可改善雙極性接面電晶體的工作特性，請說明此製程及其如何改善雙極性接面電晶體的工作特性。（20 分）
參考答案
答案：C
難度：適中0.630306
統計：A(55),B(150),C(1277),D(544),E(0) #
個人：尚未作答書單：同理心
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