問題詳情

二、⑴若由熱氧化法(Thermal Oxidation)成長二氧化矽(SiO2)之厚度為 100nm,則矽消耗若干?

參考答案

答案:B
難度:適中0.582307
統計:A(71),B(520),C(150),D(69),E(0) #
個人:尚未作答書單:烏夜啼、《莊子.外物》、著名詞家比較

內容推薦