問題詳情
24 關於義齒基底研磨面的敘述下列何者正確？
(A)要與殘嵴黏膜密接
(B)與唇、頰與舌接觸
(C)能傳達咀嚼壓力
(D)有著棒棍狀態型
(A)要與殘嵴黏膜密接
(B)與唇、頰與舌接觸
(C)能傳達咀嚼壓力
(D)有著棒棍狀態型
參考答案
答案：B
難度：困難0.3
書單：沒有書單，新增
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- 22 全口活動義齒進行側方運動調整時，若在工作側有過早接觸，應考慮磨修以下那個咬頭的內斜面最為適當？(A)上顎頰側咬頭或下顎頰側咬頭 (B)上顎頰側咬頭或下顎舌側咬頭(C)上顎舌側咬頭或下顎頰側咬頭
- 21 全口活動義齒製作時，裂模法之用途為下列何者？①防止工作模型變形 ②方便工作模型之分離 ③方便咬合調整 ④用於圍盒時工作模型之製作 ⑤可用以調整髁傾斜之角度(A)①③④ (B)②⑤ (C)①②④
- 20 關於重置位（remounting）全口活動義齒之咬合調整，下列敘述何者錯誤？(A)先確立中心咬合關係，再做側方運動的咬合調整(B)當側方運動時，工作側之咬頭及其對咬之咬窩不應磨修(C)當側方運動
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- 17 關於全口活動義齒包埋之敘述，下列何者最正確？(A)美式包埋法將人工牙與工作模型分開 (B)法式包埋法將人工牙與工作模型分開(C)美式包埋法適用於金屬基底義齒 (D)法式包埋法適用於金屬基底義齒
- 16 全口活動義齒製作時，大多數牙醫學者最認同的咬合模式為下列何者？(A)犬齒保護（canine protected）咬合 (B)相互保護（mutually protected）咬合(C)單側平衡（u
- 15 關於病患舊有義齒的資訊，下列何者不需要記錄？(A)上顎正中門齒的長度 (B)上顎正中門齒的寬度(C)上顎前牙六顆牙齒之總寬度 (D)後牙之角度
- 14 關於不同人工牙型態與咬合觀念的敘述，下列何者錯誤？(A) 30 度牙：後牙看起來較自然(B)零度牙：使用簡易型咬合器即可(C)零度牙：前牙區可以排正常垂直與水平覆蓋（overbite & ove
- 13 關於全口活動義齒排牙與咬合的敘述，下列何者錯誤？(A)下顎齒槽骨嵴最高點的連線可當成排牙位置的參考(B)具咬頭的人工牙（cusped artificial teeth）較零度牙有較佳的咀嚼效率(
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- 26 如圖所示，顎齒列依殘留齒與缺牙區的位置關係為甘迺迪分類法中之何種分類？(A) I 類-2 型 (B) Ⅱ 類-2 型 (C) III 類- 2 型 (D) IV 類- 2 型
- 27 下列何種缺牙情形，需藉由間接固位體（indirect retainer）之設計來提供額外之穩定作用？(A)甘迺迪 II 類 (B)甘迺迪 III 類 (C)甘迺迪 III 類第一變型 (D)短徑
- 28 根據 1934 年 Niswonger 的研究，當患者處於生理性靜止狀態下，對大部分的患者而言，其上下牙齒咬合面間的垂直距離約為多少厘米？(A) 0 至 1 (B) 2 至 4 (C) 6 至
- 29 製作可撤式局部義齒時，下列何種牙鈎（clasp）較不適用於甘迺迪 I 類缺牙之小臼齒支柱牙上？(A)鑄造式環周牙鈎（cast circumferential clasp） (B)洛奇牙鈎（Roa
- 30 關於修正模型法（corrected cast or altered cast）的製作優先順序，下列何者最正確？①在金屬支架上製作印模托 ②金屬支架製作與試戴 ③圍盒處理並灌製模型 ④修改主模型之
- 31 在製作遠側延伸性活動局部義齒時，鄰近遠伸性空間支柱牙之引導面（guiding plane）高度應為多少 mm？(A)小於 0.5 (B) 0.5～0 (C) 5～0 (D)大於
- 32 在局部活動義齒甘迺迪 III 類，關於鄰近缺牙區支柱牙引導面（guiding plane）的敘述，下列何者錯誤？(A)為多顆支柱牙所形成的平行面，足以引導活動局部義齒置入與摘除(B)可以藉由模型
- 33 局部活動義齒的製作過程中，關於析量與設計的步驟，下列先後順序何者最正確？①繪上析量線 ②決定石膏模型的最佳傾斜度 ③繪出設計圖 ④完成三點定位（tripoding） ⑤標示出機械性倒凹(A)①②
- 34 關於診斷用模型析量（survey）的敘述，下列何者正確？(A)以左右傾斜方向尋找支柱牙鄰接面間的平行關係，以作為引導面（guiding plane）(B)以前後傾斜的方式尋找支柱牙的固位區(C)
- 35 在緩壓蠟（relief wax）固定附連在模型後，內完成線（internal finish line）可利用刀具進行整修，使用刀具時應與模型保持幾度之關係？(A) 45 度 (B) 90 度 (
- 36 關於可撤式義齒在製作咬合基底板時，下列那一個區域我們不需進行緩壓（relief）？(A)頰棚（buccal shelf） (B)腭隆突（palatine torus）(C)下顎骨隆突（mandi
- 37 製作局部活動義齒以裂模法（split-cast method）包埋時，下列敘述何者錯誤？(A)因應不同牙弓模型選擇適當包埋盒(B)包埋前石膏模型基底應貼隔離用錫箔紙(C)包埋時包埋盒下部與中間部
- 38 關於可撤式局部義齒的組成，下列何者最無法有效提供抗衡作用（reciprocation）？(A)鑄造式牙鈎（cast clasp） (B)舌側板（lingual plate）(C)義齒基底（den
- 39 關於可撤式局部義齒上顎主連接體的敘述，下列何者錯誤？(A)腭帶的前後寬度不能小於 8 mm(B)腭帶不宜使用於甘迺迪 I 類牙弓(C)腭槓雖被廣泛使用，但非最理想的上顎主連接體(D)腭槓體積最小
- 40 關於個人牙托的敘述，下列何者錯誤？(A)可以使印模材厚度相同而得到較正確之模型(B)可以進行肌肉塑形，得到適當的邊緣型態(C)在腭隆凸等部位不需以石蠟緩壓（relief）後再進行製作(D)可利用
- 下列何種可撤式局部義齒主連接體的設計，最容易引起發音障礙？(A)前腭槓 (B)中腭槓 (C)後腭槓 (D)側方腭槓
- 42 可撤式局部義齒的設計上，有關支持（support）的敘述，下列何者最正確？(A)需抵抗脫離殘留齒及殘嵴黏膜的能力 (B)需對水平搖動或對側方力抵抗作用的能力(C)需抵抗下沉作用的能力 (D)需抵
- 43 游離端可撤式局部義齒使用 RPI 設計，當義齒游離端受力時，支柱牙及牙鈎所受的影響，下列何者最正確？(A)支柱牙會向遠心側傾斜，鈎尖移向析量線 (B)支柱牙會向遠心側傾斜，鈎尖離開析量線(C)支
- 44 關於活動局部義齒之包埋聚合法，何者對咬合之垂直高度影響最少？(A)濕式聚合法 (B)微波聚合法 (C)射出成形法 (D)光聚合法
- 45 請問下列那一種咬合器是屬於半調節型咬合器（semi adjustable articulator）？(A) Stuart (B) Gnatus (C) Hanau 158 (D) Denar D
- 46 製作可撤式局部義齒前，需將診斷用的石膏模型置位於咬合器上，下列敘述何者錯誤？(A)面弓轉移（facebow transfer）的目的是記錄與轉移上顎牙弓與下顎髁頭的三維關係(B)多數面弓所找到的
- 47 關於製作甘迺迪分類法中 I 類活動局部義齒的考量，下列敘述何者最正確？(A)殘嵴上的義齒基底覆蓋面積越少越好 (B)每一個直接固位體不應該具備彈性(C)僅由支柱牙來提供義齒的支持 (D)經緩壓處
- 48 具有遠心延伸性（distal extension）之可撤式局部義齒，欲進行義齒換底墊（reline）時，使用下列何種印模材料執行開口印模最適當？(A)藻膠（alginate）(B)瓊膠（agar
- 49 關於可撤式局部義齒換底墊（reline）的敘述，下列何者正確？(A)除人工牙齒之外的義齒基底全部換新(B)可以分成直接法與間接法，直接法的耐久性比較好(C)間接法必須使用個人牙托來完成印模(D)
- 50 關於可撤式局部義齒使用牙冠內附連體裝置（attachment）的敘述，下列何者錯誤？(A)附連體裝置的固定部通常為凹槽（female part）(B)固定部與活動部常利用磨擦力獲得固位作用(C)