問題詳情

五、
⑴以化學氣相沉積法(CVD)成長的氧化物及氮化物分別稱為SiO2及Si3N4,而以電漿加強式化學氣相沉積法(PECVD)成長的氧化物及氮化物分別稱為SiOx及SiNx,為什麼?(10 分)

參考答案

無參考答案

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