問題詳情

⑷以砷化鎵的磊晶技術為例,請說明化學氣相沉積(chemical vapor deposition, CVD)與有機金屬化學氣相沉積(metal-organic chemical vapor deposition, MOCVD)兩者的差異。

參考答案

答案:A
難度:困難0.363636
統計:A(16),B(6),C(11),D(3),E(0)

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