問題詳情

2. 有關半導體光學微影製程步驟:A 光阻曝光、B光阻塗佈、C光阻顯影,下列製程順序何者正確?
(A) BCA
(B) ABC
(C) CAB
(D) BAC

參考答案

答案:D
難度:適中0.610811
統計:A(43),B(14),C(15),D(113),E(0)

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