問題詳情

28 關於全瓷冠支架(all ceramics frame)燒瓷前的噴砂(sand blast)處理,下列何者正確?
(A)用粒徑 125μm、5 氣壓、噴嘴口距表面 10 mm,進行邊緣的噴砂
(B)用粒徑 25μm、4 氣壓、噴嘴口距表面 5 mm,進行邊緣的噴砂
(C)用粒徑 25μm、4 氣壓、噴嘴口距表面 3 mm,進行邊緣極細緣端部分的噴砂
(D)用粒徑 50μm、3 氣壓、噴嘴口距表面 5 mm,進行邊緣極細緣端部分的噴砂

參考答案

答案:C[無官方正解]
難度:適中0.666667
統計:A(0),B(0),C(2),D(1),E(0)

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