問題詳情
24 下列有關放射傷害修補之描述，何者錯誤？
(A)相同 X 光劑量分兩次照射，間隔 2 小時，其存活率較單次照射高，是因 sublethal damage repair
(B) X 光照射後，生長環境較佳的細胞比環境不佳的細胞存活率高，是因 potential lethal damage repair
(C)採用中子治療，sublethal damage repair 及 potential lethal damage repair 都不明顯
(D) X 光照射劑量率從 1Gy/min 降至 0.3 Gy/h，則細胞存活率上升
(A)相同 X 光劑量分兩次照射，間隔 2 小時，其存活率較單次照射高，是因 sublethal damage repair
(B) X 光照射後，生長環境較佳的細胞比環境不佳的細胞存活率高，是因 potential lethal damage repair
(C)採用中子治療，sublethal damage repair 及 potential lethal damage repair 都不明顯
(D) X 光照射劑量率從 1Gy/min 降至 0.3 Gy/h，則細胞存活率上升
參考答案
答案：B
難度：困難0.266667
統計：A(6),B(4),C(2),D(3),E(0)
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