問題詳情

30.依照PIC/s GMP規範,原料藥生產製程中需進行不純物確認分析,下列何者為較合適的分析方法?
(A)電位滴定法
(B)重量分析法
(C)薄層層析法
(D)紫外光光譜法

參考答案

答案:C
難度:簡單0.730281
統計:A(86),B(115),C(1611),D(394),E(0)

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