問題詳情

一、一般光微影(photo-lithography)製程主要包含那些步驟?每個步驟的功能為何?光微影(photo-lithography)製程實驗室環境有那些重要因素須控制?(20 分)

參考答案

答案:A
難度:非常簡單0.935272
統計:A(997),B(62),C(4),D(3),E(0)

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