六、在電漿（plasma）應用製程中，兩電極間加上 RF，因電子移動速度較離子快，會形成電漿電位（plasma potential）VP，令電漿相對 RF 電極之直流壓降（DC bias）為Vx，相對接地電極之直流壓降為 Vy，RF 電極面積為 Ax，接地電極面積為 Ay，其中 Ay = n Ax，關係式為 Vx/Vy = n4。已知兩電極間之自偏壓（self-bias）為 Vy 的1.25 倍，VP = 20 V，請求出：
⑴ n =？（8 分）