問題詳情
一、某半導體廠於 25 ℃、1 atm 下排放之總廢氣流量為 1000 CMM（m3/min），該廢氣中含有 HCl 及 H2SO4 空氣污染物，其濃度值經檢測分別為 2500 與 2000 ppbv。而半導體相關法規規定該廠 HCl 之排放量為不得超過 0.6 kg/hr，H2SO4 則不得超過 0.1 kg/hr，否則即需設置相關處理設施。請問該廠應否設置相關處理設施，以符合法規需求？若需要設置防制設施，則其最低處理效率為何？（原子量，H=1.0, Cl=35.5, S=32.1, O=16.0）（20 分）
參考答案
答案：C
難度：適中0.571411
統計：A(1686),B(542),C(4553),D(1187),E(0) #
個人：尚未作答書單：哈伯瑪斯 、哈伯馬斯的溝通行動理論
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