問題詳情

57 在活動局部義齒中,其金屬支架上附著樹脂基底區域與主模型間應選用下列何種蠟片進行緩壓(relief)處理最為適宜?
(A)20 號
(B)26 號
(C)28 號
(D)30 號

參考答案

答案:A
難度:困難0.290323
統計:A(9),B(10),C(4),D(2),E(0)

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