問題詳情
48 下圖是兩張 masking pattern 的圖形，根據此圖下列敘述何者正確？
(A)圖 A 的被遮蔽音頻率較圖 B 的被遮蔽音頻率高
(B)遮蔽音的頻率越接近被遮蔽音，則產生的遮蔽量越少
(C)遮蔽音的音量越高的時候，masking pattern 越對稱
(D)可以解釋發生在基底膜的向高頻遮蔽的現象（upward spread of masking）
(A)圖 A 的被遮蔽音頻率較圖 B 的被遮蔽音頻率高
(B)遮蔽音的頻率越接近被遮蔽音，則產生的遮蔽量越少
(C)遮蔽音的音量越高的時候，masking pattern 越對稱
(D)可以解釋發生在基底膜的向高頻遮蔽的現象（upward spread of masking）
參考答案
答案：D
難度：簡單0.705882
統計：A(0),B(0),C(1),D(12),E(0)
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- 45 下列關於耳蝸中內淋巴的敘述，何者錯誤？(A)由血管紋負責製造與調節 (B)含在耳蝸管（cochlear duct）內(C)含有較高濃度的鉀離子 (D)液體的電位低於外淋巴約 80 mV