問題詳情
七、試比較傳統反應性離子蝕刻技術（RIE）與高密度電漿蝕刻（ICP）之不同。（10 分）
參考答案
答案：D
難度：簡單0.816176
統計：A(0),B(15),C(1),D(111),E(0)
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