問題詳情

39 標記全口活動義齒個人模托(custom tray)之外形線時,下列敘述何者錯誤?
(A)以解剖學印模法進行印模時,應與義齒基底外形線一致
(B)以機能性印模法進行印模時,應比義齒基底外形線約短 2-3 毫米
(C)上顎的腭後緣部位要製作後障(post dam),應比義齒基底外形線稍微加長
(D)下顎的臼齒後墊(retromolar pad)部位要進行緩壓(relief),應比義齒基底外形線稍微縮短

參考答案

答案:D
難度:適中0.675676
統計:A(2),B(0),C(7),D(25),E(0)

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