問題詳情

四、
有一種使用 TEOS(tetraethyl orthosilicate)為原料的電漿加強式化學氣相沉積(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)技術成長二氧化矽(SiO2)薄膜,請說明這種方法有什麼優點?(10 分)

參考答案

答案:A
難度:適中0.541504
統計:A(1944),B(685),C(348),D(183),E(0)

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