問題詳情

三、現今半導體技術為何需要金屬閘極、High-k 閘極氧化層和應力技術?請分別詳述之。(20 分)

參考答案

答案:C
難度:簡單0.880342
統計:A(117),B(57),C(3605),D(102),E(1)

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