問題詳情
61.X光機屏蔽分析時使用之占用因數（occupancy factor）與何者有關？
(A)場所使用情形
(B)屏蔽材料
(C)X射束之能量
(D)X光機每週使用時間
(A)場所使用情形
(B)屏蔽材料
(C)X射束之能量
(D)X光機每週使用時間
參考答案
答案：A
難度：簡單0.761364
統計：A(67),B(4),C(1),D(16),E(0)
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- (五)ψ=
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